仪器型号：LV100ND

生产厂家：Nikon

主要规格和技术参数：

1、光学系统: CFI60-2（无限远光学系统）。

2、LV-UEPI 2型落射照明器，能够实现明场、暗场、简单偏光、荧光、DIC观察。当从明场切换至暗场时，视场光阑和孔径光阑自动打开。

3、物镜转换器：防静电五孔物镜转换器。

4、物镜：5倍-100倍CFI TU Plan通用平场明暗场荧光物镜（半复消色差），齐焦距离为60mm。

5、荧光模块：配备红绿蓝三个长通荧光块。

6、光源：反射照明为双光源照明，配备12V 50W高亮度卤素灯和长寿命汞灯两种光源，可通过双光源适配器手动切换；透射照明配备12V 50W高亮度卤素灯光源。

7、同品牌原厂彩色数码相机，超大规格CMOS传感器（靶面尺寸36.0mm×23.9mm）；具有1625万真实像素（非插值）；在4908×3264像素（全像素）下实现6fps的拍摄速度；1636 ×1088像素可获得45fps的拍摄速度。

8、同品牌原厂显微摄影图像处理软件，提供了从显微镜控制、显微图象的获取，到简单的几何量测量、文件管理、报告制作等一连串的作业功能。

主要功能及特色：该设备主要用于金相组织，合金材料，非金属不透光材料以及集成电路、微颗粒等的表面状况观察以及荧光观察。该仪器具有以下特色：

1、能够实现明场、暗场、简单偏光、荧光、DIC观察。当从明场切换至暗场时，视场光阑和孔径光阑自动打开。

2、反射照明为双光源照明，配备12V 50W高亮度卤素灯和长寿命汞灯两种光源，可通过双光源适配器手动切换。

3、配备了物理像素1625万像素超高分辨率彩色成像系统，可获取超高分辨率明场以及荧光图像。

主要附件及配置：

1、配备明场及荧光双光源反射照明系统；2、配备5-100倍明暗场荧光物镜；3、配备红绿蓝三色荧光滤色镜；4、配备物理像素1625万像素超高分辨率彩色成像系统；5、配备专业版分析软件。

预约网址：http://202.113.64.51/genee/